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高溫磷酸清洗機(jī)
設(shè)備名稱(chēng):高溫磷酸清洗機(jī)適用於:2-6英寸矽片清洗工藝流程:上料→預熱→蝕刻1→蝕刻2→降溫→QDR→下料產(chǎn)品規(guī)格控制模式:全自動(dòng)控制
更新:2014-01-11
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全自動(dòng)LED化學(xué)清洗機(jī)
設(shè)備名稱(chēng):全自動(dòng)LED化學(xué)清洗機(jī)適用於:2-6英寸LED基板清洗產(chǎn)品規(guī)格控制模式:全自動(dòng)控制
更新:2014-01-11
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去膠清洗臺(tái)
設(shè)備名稱(chēng):去膠清洗臺(tái)適用於:2-6寸晶圓清洗產(chǎn)品規(guī)格控制模式:半自動(dòng)控制(工件搬運(yùn)為手動(dòng)操作,工藝參數(shù)控制過(guò)程為自動(dòng))整機(jī)尺寸:約2000mm(L)×1200mm(W)×1800mm(H)
更新:2014-01-11
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顯影清洗臺(tái)
設(shè)備名稱(chēng):顯影清洗臺(tái)適用於:2-6寸晶圓清洗產(chǎn)品規(guī)格控制模式:半自動(dòng)控制(工件搬運(yùn)為手動(dòng)操作,工藝參數(shù)控制過(guò)程為自動(dòng))整機(jī)尺寸:約1400mm(L)×1200mm(W)×1800mm(H)
更新:2014-01-11
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鹼清洗臺(tái)
設(shè)備名稱(chēng):鹼清洗臺(tái)適用於:2-6寸矽片清洗產(chǎn)品規(guī)格控制模式:半自動(dòng)控制(工件搬運(yùn)為手動(dòng)操作,工藝參數(shù)控制過(guò)程為自動(dòng))總體規(guī)格: 1200mm(L)×1100mm(W)×2000mm(H)
更新:2014-01-11
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酸清洗臺(tái)
設(shè)備名稱(chēng):酸清洗臺(tái)適用於:2-6寸矽片清洗產(chǎn)品規(guī)格控制模式:半自動(dòng)控制(工件搬運(yùn)為手動(dòng)操作,工藝參數(shù)控制過(guò)程為自動(dòng))總體規(guī)格: 1200mm(L)×1100mm(W)×2000mm(H)
更新:2014-01-11
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蝕刻清洗機(jī)
設(shè)備名稱(chēng):蝕刻清洗機(jī)適用於:2-6寸晶圓刻蝕清洗產(chǎn)品規(guī)格控制模式:半自動(dòng)控制(工件搬運(yùn)為手動(dòng)操作,工藝參數(shù)控制過(guò)程為自動(dòng))總體規(guī)格: 1400mm(L)×1000mm(W)×2000mm(H)
更新:2014-01-11
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有機(jī)清洗設(shè)備
設(shè)備名稱(chēng):有機(jī)清洗臺(tái)適用於:2-6寸矽片清洗產(chǎn)品規(guī)格控制模式:半自動(dòng)控制(工件搬運(yùn)為手動(dòng)操作,工藝參數(shù)控制過(guò)程為自動(dòng))總體規(guī)格: 1800mm(L)×1100mm(W)×2000mm(H)
更新:2014-01-11
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全自動(dòng)SPM超聲清洗設(shè)備
設(shè)備名稱(chēng):全自動(dòng)SPM超聲清洗設(shè)備產(chǎn)品規(guī)格設(shè)備型號(hào):KZIC-T-CW-04A整機(jī)尺寸:2500mm(L)X1950mm(W)X2100mm(H)(尺寸可據(jù)客戶(hù)需求改變)生產(chǎn)產(chǎn)品:2~6寸晶圓片
更新:2014-01-11
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柔性材料清洗設(shè)備
設(shè)備參數(shù) 設(shè)備型號(hào) KZ-FD-C-BRW-6A設(shè)備規(guī)格 25350mm*1250mm*1500mm(L*W*H)設(shè)備亮點(diǎn) 功能顯影-蝕刻-脫膜 產(chǎn)能 單道輸(shū)送
更新:2014-01-11
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玻璃基板中間水洗設(shè)備
產(chǎn)品GLASS670mm(L)*550mm(W)*(T=3mm)產(chǎn)能傳輸(shū)軌道單軌道輸(shū)送方式,軌道有效寬550mm工作方向自左向右或從右向左由客戶(hù)定方向傳輸(shū)速度速度範圍0.5-5.0m/min可調(diào)
更新:2014-01-11
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顯影清洗設(shè)備
名稱(chēng):顯影清洗設(shè)備產(chǎn)品規(guī)格控制模式:全自動(dòng)控制總體規(guī)格:6300mm(L)×1300mm(W)×1850mm(H)工件材料:ITOGLASS / FILM
更新:2014-01-11
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